
1月13日,由中国美术馆策划并主办的“未来诗篇,技艺的笔触和留白——科技艺术新样貌”展览与观众见面。
本次展览展出8位当代青年艺术家的创作实践,集中呈现他们将科技融入艺术的创作探索。展品涵盖装置、数字沉浸艺术等多种媒介形态,既有从传统山水精神中蜕变而出的数字意境,也有直面人工智能技术的思辨。

据介绍,中国美术馆始终关注、引导科技与艺术的深度融合,此次展览不仅是一场“技术+艺术”的创新成果展示,更是一场关于未来艺术可能性的学术探讨。

展览由中国美术馆展览部柳淳风、李暨涵担任策展人,各部门通力协作。展览呈现在中国美术馆一层7号厅,展出至1月30日(周一闭馆)。

(光明日报全媒体记者于园媛)
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